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光學(xué)無磁光學(xué)實(shí)驗(yàn)平臺(tái)CL-WCGXPT系列
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無磁光學(xué)平臺(tái)： 1、采用304或者316L無磁不銹鋼加工臺(tái)面，臺(tái)面材料全部采用無磁不銹鋼。 2、支架可搭配阻尼支架，氣浮支 架。支架也可以選配全無磁或者普通帶磁性支架。 3、平面度：0.02mm/m2；表面粗糙度：0.8-1.6μm。
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